Echipamentul de sputtering cu magnetron este compus în principal din următoarele piese:
1. Material țintă: componenta de bază a echipamentelor de sputtering cu magnetron, de obicei din metal, aliaj și alte materiale.
2. Camera de vid: Mediul de funcționare al echipamentelor de sputtering cu magnetron trebuie să fie efectuat în condiții de vid ridicate, iar camera de vid joacă rolul menținerii vidului.
3. Sistem de magnetron: Câmpul magnetic este utilizat pentru a controla bombardamentul ionic pe suprafața materialului țintă pentru a provoca sputtering.
4. Frame de substrat: utilizat pentru a susține materialul de substrat care trebuie procesat.
5. Sistem de încălzire: În unele cazuri, materialul țintă și substratul trebuie încălzit pentru a controla procesul de sputtering.
